RIE
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- 网络反应离子刻蚀(Reactive Ion Etching);反应离子腐蚀;教育资源(Resources in Education)
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反应离子刻蚀(Reactive Ion Etching)
在反应离子刻蚀(RIE)及等离子体刻蚀(PE)设备中,分别采用CF_4,SF_6,NF_3和C_7F_(14),腐蚀剂气体,对(100)Si进行刻蚀.研究 …
反应离子腐蚀
该薄膜用反应离子腐蚀(RIE)形成调制起需要的机械形状,电极沉积在氮化硅上,用HF腐蚀形成有源区。MARS以多层电介质反 …
教育资源(Resources in Education)
...题,提供了最完备的教育书刊的书目信息,包括对发表在Resources in Education (RIE) 月刊上的非期刊资料与每个月发表在C…
反应离子刻蚀机(Reactive Ion Etcher)
本文采用反应离子刻蚀机 ( RIE) 用 CF4 对硅片做预处理 , 然后进行氧化的方法 , 在 SiO2 中 引入 F. 此方法无须增加新设备 ,且 …
反应式离子蚀刻
标准的反应式离子蚀刻(RIE)系统不是最好的选项,因为它固有的高直流偏压使得蚀刻选择比不高。在高密度电浆源(High Densit…
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