SiOxNy
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SiOxNySiOxNy
氮氧化矽
氮氧化矽(SiOxNy)薄膜是一种新兴的薄膜材料文档简介 氮氧化矽(SiOxNy)薄膜是一种新兴的薄膜材料 文档日志 暂无日志信息 …
氮氧化硅
超薄氮氧化硅（SiOxNy）栅NMOSFET中GIDL效应的研究文档简介 超薄氮氧化硅（SiOxNy）栅NMOSFET中GIDL效应的研究 …
氮氧矽化合物
...水氧的渗透及扩散。目前使用的水氧阻隔膜材料有二氧化矽（SiO2）、四氮化三矽（Si3N4）和氮氧矽化合物（SiOxNy）， …
氮氧化矽层
采用较低温之化学气相沈积法(CVD)形成的氮氧化矽层(SiOxNy)做为蚀刻之终止层。并研究增加的双重n+ 及p+ 源/汲极离子布 …
氮矽化合物
电浆处理过程中，一个氮矽化合物(SiOxNy)化合物在多晶矽层上生成。SiOxNy随著不同的N2O电浆功率(100、200、300W)下 …
硅氧氮化合物
由于氮化硅（Si3N4）或硅氧氮化合物（SiOxNy）具有很低的过孔密度，因此，在CMOS工艺中，被采纳用作钝化保护层。在 …
矽氧氮化合物
由於氮化矽（Si3N4）或矽氧氮化合物（SiOxNy）具有很低的过孔密度，因此，在CMOS工艺中，被采纳用作钝化保护层。在 …
硅氧氮化物
一般采用PECVD沉积的薄膜是氮化硅（SixNy）、二氧化硅（SiO2）、硅氧氮化物（SiOxNy）、碳化硅（SiC）和无定形硅（α …
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