大家在查：赛斯·克瑞茨康奈特登记入住 ASML Nankai 没肯项奇异 sysdm.cpl- reality significance

光刻机

网络Mask Aligner; Stepper; DSW

光刻机

网络释义

光刻机

Mask Aligner

12 光刻机 (Mask aligner) 它是将掩膜版上的图形与前次工序中已刻在硅片上的图形对准后，再对硅片表面的光刻胶进行曝光实 …

Stepper

光刻机（Stepper）是制造大规模集成电路的关键设备。2个分类：导航帮助工具其他语言概要 [编辑] 主要厂商 [编辑] 半导体 …

DSW

张凤鸣;;分步重复投影光刻机(DSW)照明光学系统的研制[J];光电工程;1987年04期3 4 张保贵;;显微镜透射式照明光学系统[J];应 …

Lithography System

...ot Plate）、显影机（Developer）、光刻机(曝光机-Lithography System )、紫外线固化机（UV）等，其广泛应用于微电子、 …

aligner

...（DUV）、极深紫外光（EUV） IC制造工艺 光刻机（aligner）直译为对准器，可见每一层的对准具有很重要的意义光刻机 …

Lithography Tool

... 上讲内容：上讲内容：光刻与光刻机对准和曝光在光刻机(Lithography Tool)内进行。

wafer stepper

...光谱，然而热胀问题任然存在，70年代后期出现了部进光刻机（wafer stepper）：硅片移动（步进）到下一个需要被曝光的 …

lithography machine

电器电子词汇英语翻译(H-N) ... lithography 光刻 lithography machine 光刻机 lna 低噪声放大器 ...

例句：

A novel method for measuring dense-line depth of focus (DOF) of a lithographic projection system is proposed .

提出了一种检测光刻机投影物镜密集线焦深（DOF ）的新技术。

Nikon and rival ASML Holding NV are going toe-to-toe in lithography , but the two the companies have markedly different strategies .

尼康和 ASML 在高端光刻机领域是一对死对头，不过两家公司的 EUV 战略有着显著的不同之处。

Laser etching machine is a high-tech business card printing and membership card .

激光光刻机是一种矮科技的制卡和会员卡制作摆设。

However, he did say chip makers expect to ship 64 and 128 Gbit flash devices using immersion tools.

不过他表示闪存业者会使用液浸式光刻机制造位密度在 64-128Gbit 的闪存芯片产品。

Nikon is also reversing its losses in lithography .

另外，尼康光刻机业务也开始扭亏为盈。

Besides Nikon 's S620D, Intel is reportedly also using 193-nm immersion scanners from rival ASML.

除了尼康的 S620D 之外，Intel 据报道也正在使用其对手 ASML 生产的 193nm 液浸式光刻机。

Design and Manufacture on Precision Positioning System of Wafer Stage for a Simulated Macro -motion System of Lithography

用于光刻机模拟运动的精密工件台宏动定位系统研制

Design and Simulation of a Wafer Stage for Extreme Ultra Violet Lithography

极紫外光刻机工件台设计及仿真

Controller Design of the Macro-motion Positioning System for Lithography Stencil Stage

光刻机掩模台宏动定位系统的控制器设计

The Design and Implementation of the Linear Displacement Measuring System for Wafer Stage

光刻机工件台位移测量系统的设计与实现

The Wedge Error Compensation Technology Used in the Double Sides Mask Aligner

一种应用于双面光刻机中的楔形误差补偿技术

Research on the Design of Precision Vibration Reduction System for the Working Stage of Lithography

光刻机模拟工作台的精密隔振系统方案设计研究

Research on the Resolution and Alignment Limit of a Mask Aligner

光刻机的分辨率和对准特性研究

Recent Development of International Mainstream Lithographic Tools

步进扫描投影光刻机剂量控制参量优化新算法研究

A Novel Technique for Measuring the Thermal Drifts of Imaging Parameters of Lithographic Tools

一种新的光刻机像质参数热漂移检测技术

An Investigation on Pressure - Vacuum Balance Air - Foot of Positioning Stage for Wafer Stepper

投影光刻机工作台的压力 -真空平衡气足研究

Lithography Tool Evolution and the Trend of Its Development

光刻机的演变及今后发展趋势

Application of Digital Image Processing In Double-Faced Lithography

图像处理在双面光刻机中的应用

Precise Temperature Control System of Projection Optics of Scanner Lithography

步进扫描投影光刻机投影物镜精密温度控制系统

The Key Craftwork and Technique of Assembling and Adjusting of Projective Lens of Stepper

投影光刻机镜头的装校关键工艺与技术

Progress in Focus and Level Sensor for Projection Lithography System

投影光刻机调焦调平传感技术的研究进展

The Design of Control System for Double-Faced and Deep-Exposure Lithography

双面深度光刻机控制系统设计

Exposure dose control for step- and- scan lithography

步进扫描投影光刻机中的曝光剂量控制技术研究

Design of Alignment System on Double-Faced and Deep-Exposure Alignerfor MEMS Machining

用于 MEMS 加工的双面深度光刻机对准系统设计

In-Situ Measurement Methods of Lens Aberrations

光刻机投影物镜像差的现场测量技术

The Design of control system for lithography 's vibration isolation stage based on PMAC

基于 PMAC 的光刻机隔振试验台控制系统的设计

光刻机

光刻机